플라즈마의 응용
플라즈마는 물질의 4번째 상태로 불리우는 고에너지 하전입자 및 중성 입자들의 집합체이다.
플라즈마가 이렇듯 이온화에 의해 발생 된 고에너지의 하전입자를 포함하고 있기 때문에 선택적으로 조정할 수 있는 능력,
다른 물질과 활발히 반응하여 대상물질의 상태를 물리, 화학적으로 변화 시키는 능력 및 활성도가 낮은 중성종을 자극하여
활성도를 향상시키는 능력 등의 unique한 특성을 지니게 되는데, 이러한 특성으로 인해 아래의 그림과 같이 핵융합, 반도체 제작,
표면 처리, 폐기물 처리, 디스플레이 장치 등의 다양한 분야에 응용되고 있으며, 그 응용분야가 날로 넓어지고 있는 상황이다.
플라즈마 응용 기술과 각 기술이 적용되는 산업체의 응용 분야는 매우 다양하며 지속적으로 그 응용 분야가 확대되고 있는 상황이다.
이 중에서 특히 주목할 만한 분야는 현재 거대한 수요를 형성하고 있는 반도체와 디스플레이 장치 제작이다.
이러한 플라즈마의 반도체 및 디스플레이 제작에서 응용기술의 핵심은 식각, 증착, 스퍼터링 등의 표면 반응 등이라고 할 수 있으며,
이러한 미세구조의 제작기술은 MEMS 및 NANO 기술로 그 응용범위가 날로 확대되고 있는 추세이다.
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